Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou

Autoři

  • M. Urbánek Ústav přístrojové techniky, AV ČR, v.v.i., Brno
  • S. Krátký Ústav přístrojové techniky, AV ČR, v.v.i., Brno
  • M. Matějka Ústav přístrojové techniky, AV ČR, v.v.i., Brno
  • V. Kolařík Ústav přístrojové techniky, AV ČR, v.v.i., Brno
  • M. Horáček Ústav přístrojové techniky, AV ČR, v.v.i., Brno

Klíčová slova:

zápis rastrovací sondou, lokální anodická oxidace, rytí hrotem, mikroskopie atomárních sil

Abstrakt

AFM (atomic force microscopy) nanolithography can be used for preparation of nanostructures in various fields such as nanodevices, nanoantenas and biosensors. Several methods of AFM nanolithography (local anodic oxidation, electron resist exposure, dip pen nanolithography and nanoscratching), their advantages and essential properties are described.

Stahování

Publikováno

15.10.2014

Jak citovat

Urbánek, M., Krátký, S., Matějka, M., Kolařík, V., & Horáček, M. (2014). Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou. Chemické Listy, 108(10), 937–941. Získáno z http://ww-w.chemicke-listy.cz/ojs3/index.php/chemicke-listy/article/view/447

Číslo

Vol 108 No 10 (2014)

Sekce

Články

Nejaktuálnější články stejného autora (stejných autorů)